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半导体硅片光刻清洗机设备工作台
半导体硅片光刻清洗机设备工作台
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最小订货量: 1台
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最后更新: 2014/5/7
有效期: 2014/6/6
 
详细说明

半导体硅片光刻清洗机设备工作台

1. 本设备是光刻清洗台,适用于4-6英寸半导体硅片清洗工艺。

2.整机由机台、操作台面、清洗槽体、温度控制系统,排风、机台照明、电气控制系统等组成。机身包板为德国PP板。瓷白色,整洁美观。

3.3个槽体  水浴加热槽2个,排水槽1  

4. 本半导体硅片光刻清洗机设备的左、右前方各配置PP材料的水qiang、气qiang2

5.PLC控制器

6.声光提示、报警功能

7. 设备照明:20W封闭日光灯

8. DIW氮气(N2) 管路 、洁净空气管路、自来水管、 药液排放管、排气管路、 排水管布局简洁合理。

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